上?？萍即髮W公共超凈平臺是上?？萍即髮W第一個五年計劃重點建設工程之一，是學校開展半導體器件工藝及其交叉學科研究的重要創(chuàng)新平臺。本超凈室主要為III-V族， III-Nitride, Si， Ge等無機半導體材料和相關新型器件提供研究和制造平臺。

公共超凈平臺的建設目的是為了促進納米科學技術、半導體技術、光電子技術的基礎研究和發(fā)展，以及能源、信息、材料、醫(yī)療、環(huán)境等領域多學科交叉研究。通過3-5年持續(xù)的發(fā)展和建設，將逐步建立起條件優(yōu)良，功能齊全，管理規(guī)范，先進高效的優(yōu)質(zhì)資源公用系統(tǒng)和共享機制，建設成適應于當前以及未來器件工藝研發(fā)所需要的基礎支撐體系。

公共超凈平臺屬于上科大公共科研平臺，委托信息學院籌建并先期管理。根據(jù)科研工作需要，現(xiàn)誠聘光刻工藝工程師1名。該職位目前向公共超凈平臺負責人匯報工作。

一、 崗位職責

1. 負責嫻熟操作與使用超凈室中包含但不限于電子束曝光機、掃描步進曝光機、電子顯微鏡、勻膠機、化學通風柜等實驗設備、儀器及裝置;

2. 負責完善與曝光工藝流程(曝光、勻膠、顯影、堅膜等)相關的工藝規(guī)范，研究工藝參數(shù)與條件對實驗結(jié)果的影響趨勢或規(guī)律;

3. 負責設計制定曝光工藝優(yōu)化方案、擴大工藝窗口、改善工藝能力;對新進工藝工程師或工藝技術員責任機臺培訓方案執(zhí)行。

4. 負責實現(xiàn)并完成學?？蒲许椖俊⑼鈪f(xié)項目與曝光工藝相關的工藝流程;

5. 負責日常曝光工藝問題處理，完成分析報告并及時完成相關文件;

6. 負責采購、保管和管理曝光工藝相關的必備耗材與工具;

7. 幫助和培訓學生以及其他科研工作人員使用曝光工藝相關的設備與儀器;

8. 輔助半導體器件制造實驗課程的制定和開設;

9. 其它負責人交待的相關工作。

二、招聘條件

1. 具有微電子，光電子，材料或者物理等領域的本科，碩士或博士學歷;在該項工藝領域具備優(yōu)秀研發(fā)能力以及豐富良率提升經(jīng)歷者可放寬學歷條件;

2. 具有豐富的器件工藝的經(jīng)歷(研究生的在?？蒲薪?jīng)歷也適用)，具備計算機輔助制圖以及制作光刻版圖形的能力;

3. 對半導體器件，光電子器件的工作原理和測試有基本的了解;

4. 具有良好的團隊合作精神，善于溝通;

5. 能夠閱讀相關專業(yè)的英語文獻及具備英文寫作能力;

6. 具有良好的協(xié)調(diào)溝通能力、管理能力和學習能力、以及團隊合作精神。

三、應聘要求及程序

1.請應聘者通過人才招聘系統(tǒng)(http://jobs.shanghaitech.edu.cn/)提交應聘申請，請?zhí)顚懲暾麘覆牧稀２唤邮墁F(xiàn)場和郵件應聘。應聘流程為：注冊、填寫并提交個人基本信息、應聘選擇崗位。

2.對應聘者進行資格審查，對初審通過者，將另行通知面試時間。

3.招滿即止。

4.如有疑問，請發(fā)郵件至sist@shanghaitech.edu.cn。